सूक्ष्म इमल्शनसाठी इमल्सीफिकेशन मेथड 1

सिलिट-1100<100% सॉलिड सामग्री> 30% सॉलिड सामग्री मायक्रो इमल्शनसाठी इमल्सीफाइड

①सिलिट-1100---- 200 जी

+TO5 ---- 50 जी

+TO7 ---- 50 जी

+ इथिलीन ग्लाइकोल मोनोबुटिल इथर ---- 10 जी; नंतर 10 मिनिटे ढवळत

H +एच₂ओ ---- 200 जी; नंतर 30 मिनिटे ढवळत

H + एचएसी (---- 8 जी) + एच₂ओ (---- 292); नंतर हळू हळू मिश्रण घाला आणि 15 मिनी ढवळत रहा

H +एच₂ओ ---- 200 जी; नंतर 15 मिनिटे ढवळत

टीटीएल.:1000 ग्रॅम / 30% घन सामग्री

मॅक्रो इमल्शनसाठी इमल्सीफिकेशन पद्धत 2

सिलिट-1100<100% सॉलिड सामग्री> 30% सॉलिड सामग्रीवर emusifiedaसीआरओ इमल्शन

①सिलिट-1100---- 250 जी

+TO5 ---- 25 जी

+TO7 ---- 25 जी

नंतर 10 मिनिटे ढवळत

② हळू हळू एच जोडा₂ओ ---- 200 ग्रॅम एका तासात; नंतर 30 मिनिटे ढवळत

H + एचएसी (---- 3 जी) + एच₂ओ (---- 297); नंतर हळू हळू मिश्रण घाला आणि 15 मिनी ढवळत रहा

H +एच₂ओ ---- 200 जी; नंतर 15 मिनिटे ढवळत

टीटीएल.:1000 ग्रॅम / 30% सॉलिड सामग्री मॅक्रो इमल्शन