आमची मुख्य उत्पादनेः अमीनो सिलिकॉन, ब्लॉक सिलिकॉन, हायड्रोफिलिक सिलिकॉन, त्यांचे सर्व सिलिकॉन इमल्शन, ओले रबिंग फास्टनेस इम्प्रॉव्हर, वॉटर रिपेलेंट (फ्लोरिन फ्री, कार्बन 6, कार्बन 8), डेमिन वॉशिंग केमिकल्स (एबीएस, एन्झाइम, स्पॅन्डेक्स प्रोटेक्टर, मॅनेनीज रीमोव्हर) ， मुख्य निर्यात, भारत, बांगीस्टन उझबेकिस्तान इ

 

रासायनिक उत्पादनाच्या प्रक्रियेत, विविध कारणांमुळे, पॉलिमर, कोकिंग, तेल आणि धूळ, स्केल, गाळ आणि संक्षारक उत्पादने यासारख्या धूळ आणि घाण उपकरणे आणि पाइपलाइनमध्ये येऊ शकतात. हे उपकरणांच्या वापरावर गंभीरपणे परिणाम करतात, म्हणून रासायनिक उपकरणे स्वच्छ करणे खूप महत्वाचे आहे.

रासायनिक उपकरणांच्या साफसफाईमध्ये दोन प्रकार समाविष्ट आहेत: ऑनलाइन साफसफाई आणि ऑफलाइन साफसफाई.

 

ऑनलाइन साफसफाई

नैसर्गिक रक्ताभिसरणासाठी सिस्टममध्ये रसायने जोडण्यासाठी डोसिंग बॉक्स म्हणून फिरणार्‍या वॉटर सिस्टममध्ये कूलिंग टॉवर वापरा.

फायदे: उपकरणांना बंद करण्याची आवश्यकता नाही आणि सामान्य उत्पादन आणि वापरावर परिणाम होत नाही.

गैरसोय: ऑफलाइन साफसफाईच्या तुलनेत साफसफाईचा प्रभाव फारसा चांगला नाही. लांब साफसफाईची वेळ आणि उपकरणांना महत्त्वपूर्ण गंज धोके.

 

ऑफ-लाइन वॉशिंग

हे उपकरणे किंवा पाइपलाइनमधून साफ ​​करण्यासाठी घटकांचे पृथक्करण करण्याच्या प्रक्रियेस आणि साफसफाईसाठी दुसर्‍या ठिकाणी (घटकांच्या मूळ स्थानाशी संबंधित) वाहतूक करण्याच्या प्रक्रियेचा संदर्भ देते.

ऑफलाइन साफसफाई शारीरिक साफसफाई आणि रासायनिक साफसफाईमध्ये विभागली जाऊ शकते.

शारीरिक साफसफाई: उपकरणे स्वच्छ करण्यासाठी उच्च-दाब वाहणारे पाणी वापरा. उच्च दाब साफसफाईची उपकरणे आवश्यक आहेत.

केमिकल क्लीनिंग: हीट एक्सचेंजर स्वतंत्रपणे बाहेर काढा आणि फिरत्या पाण्याचे इनलेट आणि आउटलेट पाइपलाइन अभिसरण करण्यासाठी साफसफाईच्या वाहनाशी जोडा. रासायनिक साफसफाईची खालील वैशिष्ट्ये आहेत:

फायदे: औषधोपचार कमी आणि साफसफाईचा चांगला परिणाम.

तोटे: संबंधित उपकरणे आवश्यक आहेत, जसे की कार किंवा पाण्याच्या टाक्या साफ करणे, उच्च-दाब पंप, कनेक्टिंग वाल्व्हचे विविध वैशिष्ट्य, वेल्डिंग उपकरणे इ.

 

रासायनिक साफसफाईचे दोन प्रकार आहेत: acid सिड वॉशिंग आणि अल्कली वॉशिंग.

अल्कली वॉशिंग: मुख्यतः सेंद्रिय पदार्थ, सूक्ष्मजीव, तेलाचे डाग आणि उपकरणांच्या आत इतर संलग्नक काढून टाकण्यासाठी वापरले जाते, जसे की उपकरणांच्या स्थापनेदरम्यान वापरल्या जाणार्‍या गंज अवरोधक. अल्कधर्मी वॉशिंग सैल करणे, सैल करणे, इमल्सिफाई करणे आणि अजैविक लवण पसरविण्यात देखील भूमिका बजावू शकते. सामान्य साफसफाईच्या एजंट्समध्ये सोडियम हायड्रॉक्साईड, सोडियम कार्बोनेट, ट्रायसोडियम फॉस्फेट इ. समाविष्ट आहे.

Acid सिड वॉशिंग: मुख्यत: कार्बोनेट्स, सल्फेट्स, सिलिका स्केल इ. सारख्या अजैविक लवणांचे जमा काढून टाकण्यासाठी सामान्य साफसफाई एजंट्समध्ये हायड्रोक्लोरिक acid सिड, सल्फ्यूरिक acid सिड आणि हायड्रोफ्लूरिक acid सिड सारख्या सेंद्रिय ids सिडचा समावेश आहे. सिट्रिक acid सिड आणि अमीनो सल्फोनिक acid सिड सारख्या सेंद्रिय ids सिडस्.

 

स्वच्छ रासायनिक उपकरणे का?
1. वाहन चालवण्यापूर्वी साफसफाईची आवश्यकता

उत्पादन कार्यक्षमता सुधारण्यासाठी आणि उत्पादनावर घाणांचा परिणाम टाळण्यासाठी ड्रायव्हिंग करण्यापूर्वी रासायनिक साफसफाई करणे आवश्यक आहे. म्हणूनच, नवीन रासायनिक उपकरणे कार्यान्वित होण्यापूर्वी, प्रारंभ करण्यापूर्वी ते स्वच्छ केले जाणे आवश्यक आहे.

रासायनिक उत्पादन प्रक्रियेमध्ये एकाधिक रासायनिक कच्च्या मालाचा समावेश आहे आणि त्यामध्ये उत्प्रेरकांचा वापर आवश्यक आहे. विशिष्ट कच्च्या मालासाठी आणि उत्प्रेरकांसाठी शुद्धता आवश्यकता अत्यंत उच्च आहेत, म्हणून उत्पादन प्रक्रियेदरम्यान उपकरणे आणि पाइपलाइनच्या स्वच्छतेसाठी उच्च आवश्यकता आहेत. कोणत्याही अशुद्धीमुळे उत्प्रेरक विषबाधा, बाजूच्या प्रतिक्रिया आणि संपूर्ण प्रक्रियेस नुकसान होऊ शकते. याव्यतिरिक्त, डिव्हाइसमधील काही उपकरणे आणि उपकरणे उच्च अचूक आवश्यकता असतात किंवा अशुद्धींच्या विध्वंसक प्रभावांबद्दल अत्यंत संवेदनशील असतात. म्हणूनच, यांत्रिक अशुद्धीच्या कोणत्याही हस्तक्षेपामुळे अचूक घटकांच्या गुणवत्तेचे नुकसान होण्याची शक्यता असते आणि सामान्य उत्पादनावर परिणाम होतो.

2. काम सुरू केल्यानंतर साफसफाईची आवश्यकता

रासायनिक उपकरणे, जेव्हा बर्‍याच काळासाठी वापरली जातात तेव्हा पॉलिमर, कोकिंग, तेल आणि घाण, पाण्याचे प्रमाण, गाळ आणि संक्षारक उत्पादने यासारख्या धूळ तयार करू शकतात, जे रासायनिक उपकरणांच्या कार्यावर गंभीरपणे परिणाम करतात. रासायनिक उपकरणांची वेळेवर साफसफाईमुळे त्याचे सेवा जीवन वाढू शकते, कार्यक्षमता सुधारू शकते, सुरक्षितता सुनिश्चित होते आणि आर्थिक नुकसान कमी होते.

तर, ड्रायव्हिंग करण्यापूर्वी किंवा काही कालावधीसाठी वापरल्यानंतर, उपकरणे स्वच्छ केल्या पाहिजेत, जे दररोज देखभाल करणे आवश्यक आहे.

 

रासायनिक उपकरणांसाठी साफसफाईची प्रक्रिया काय आहे?

साफसफाईची उपकरणे तयार करण्यापूर्वी तयारी

साफसफाई करण्यापूर्वी, उपकरणे किंवा डिव्हाइसमधील घटक जे गंजण्यास संवेदनशील असतात आणि क्लीनिंग सोल्यूशनपासून होणारे नुकसान, जसे की वाल्व्ह आणि फ्लो मीटरचे नियमन करणे, आणि फिल्टर कोअर (जाळी) आणि एक-मार्ग वाल्व कोर काढले जावे. आणि साफसफाईच्या प्रक्रियेदरम्यान इतर घटकांना कोणतीही गळती किंवा नुकसान होणार नाही याची खात्री करण्यासाठी आणि स्वच्छ उपकरणे आणि अपायल उपकरणे आणि पाइपलाइनपासून विभक्त करण्यासाठी, तात्पुरते शॉर्ट पाईप्स, बायपास किंवा अंध प्लेट्स जोडणे यासारख्या उपाययोजना केल्या पाहिजेत.

 

साफसफाईची प्रक्रिया आणि प्रक्रिया अटी

1. साफसफाईची पद्धत

उपकरणांच्या विशिष्ट परिस्थितीनुसार, भिजवून चक्र साफ करणे किंवा स्प्रे साफसफाईचा वापर केला जाऊ शकतो.

भिजवून सायकल साफसफाईचा वापर करताना, कमी बिंदू इनलेट उच्च, अमोनिया रिटर्न सायकल प्रक्रिया स्वीकारली जाऊ शकते.

स्प्रे क्लीनिंग वापरताना, हाय पॉइंट लिक्विड इनलेट आणि लो पॉइंट रिफ्लक्सची प्रक्रिया स्वीकारली जाऊ शकते.

२. साफसफाईची प्रक्रिया आणि रासायनिक साफसफाईच्या डिग्रीमध्ये सामान्यत: सिस्टम वॉटर प्रेशर लीक शोध (वॉटर फ्लशिंग), डिग्रीजिंग, वॉटर फ्लशिंग, acid सिड वॉशिंग, रिन्सिंग, न्यूट्रलायझेशन, पॅसिव्हेशन, तपासणी आणि मॅन्युअल उपचार समाविष्ट असतात.

खाली प्रत्येक प्रक्रियेसाठी स्पष्टीकरण प्रदान करते.

वॉटर प्रेशर लीक डिटेक्शन (वॉटर फ्लशिंग) चा उद्देश म्हणजे तात्पुरती प्रणालींची गळतीची परिस्थिती तपासणे आणि धूळ, गाळ, अलिप्त मेटल ऑक्साईड्स, वेल्डिंग स्लॅग आणि सिस्टममधून इतर सैल आणि सहज काढता येण्याजोग्या घाण काढून टाकणे.

सिड वॉशिंग सुनिश्चित करण्यासाठी यंत्रणेतून यांत्रिक तेल, ग्रेफाइट ग्रीस, तेलाचे कोटिंग्ज आणि गंज तेल यासारख्या तेलाचे डाग काढून टाकणे हा साफसफाईचा उद्देश आहे.

डीग्रेझिंगनंतर पाण्याचे धुण्याचे उद्दीष्ट म्हणजे सिस्टममधून अवशिष्ट क्षारीय साफसफाईचे एजंट्स काढून टाकणे आणि पृष्ठभागावरुन काही अशुद्धी काढून टाकणे. ऑब्जेक्ट काढा.

Acid सिड वॉशिंगचा उद्देश acid सिड आणि मेटल ऑक्साईड्स दरम्यान रासायनिक अभिक्रियाद्वारे विद्रव्य पदार्थ काढून टाकणे आहे.

Acid सिड वॉशिंगनंतर पाण्याने स्वच्छ धुवा हा उर्वरित acid सिड वॉशिंग सोल्यूशन आणि स्वच्छ कण काढून टाकणे आणि धुवून आणि पॅसिव्हेशन ट्रीटमेंटसाठी सिस्टममधून खाली पडलेले घन कण काढून टाकणे आहे.

स्वच्छ धुवावण्याचा हेतू म्हणजे सिस्टममध्ये अवशिष्ट लोह आयनसह चिलेट करण्यासाठी अमोनियम सायट्रेट वापरणे आणि पाण्याच्या स्वच्छतेच्या प्रक्रियेदरम्यान तयार होणारी फ्लोटिंग गंज काढून टाकणे, सिस्टममध्ये एकूण लोह आयन एकाग्रता कमी करणे आणि त्यानंतरच्या उताराचा परिणाम सुनिश्चित करणे.

तटस्थीकरण आणि पॅसिव्हेशन प्रक्रियेचा उद्देश अवशिष्ट acid सिड सोल्यूशन काढून टाकणे आहे, तर पासिव्हेशन म्हणजे ऑक्सिडायझिंग आणि दुय्यम फ्लोटिंग गंज तयार केल्यापासून acid सिड वॉशिंगनंतर सक्रिय स्थितीत असलेल्या धातूच्या पृष्ठभागास प्रतिबंध करणे.

 

काम सुरू झाल्यानंतर साफसफाई

1-2 वर्षे किंवा बर्‍याचदा कार्यरत असलेल्या रासायनिक उपकरणे लोह ऑक्साईड स्केल किंवा स्टीलमध्ये स्टीलचे पालन करतात. कॉपर स्केलमध्ये कॉपर ऑक्साईड (सीयूओ), मूलभूत तांबे कार्बोनेट [सीयू 2 (ओएच) 2 सीओ 3] आणि मेटलिक कॉपर आहे.

रस्ट स्केल सामान्यत: acid सिड वॉशिंगद्वारे काढला जाऊ शकतो. अ‍ॅसिड वॉशिंगची पद्धत आणि चरण मुळात काम सुरू करण्यापूर्वी उपकरणे साफ करण्याच्या पद्धतीप्रमाणेच असतात.

जेव्हा घाणीतील तांबे सामग्री जास्त असते, तेव्हा ती एकट्या acid सिड वॉशिंगद्वारे काढली जाऊ शकत नाही. अ‍ॅसिड वॉशिंग करण्यापूर्वी अमोनियाच्या पाण्यासह तांबे घटक काढून टाकणे आवश्यक आहे.

तांबे आणि तांबे ऑक्साईड स्केल बहुतेकदा लोह ऑक्साईडसह स्तरित संलग्नक तयार करतात, जे स्वच्छ करणे कठीण आहे आणि स्तरित संलग्नक तयार होण्यापूर्वी स्वच्छ केले पाहिजे.

 

उष्मा एक्सचेंजर कसे स्वच्छ करावे?

उष्णता एक्सचेंजर्सची साफसफाई सामान्यत: दोन श्रेणींमध्ये विभागली जाते: यांत्रिक साफसफाई आणि रासायनिक साफसफाई.

 

यांत्रिक साफसफाई

यांत्रिक साफसफाईची पद्धत द्रव किंवा यांत्रिक क्रियेच्या प्रवाहावर अवलंबून असते जेणेकरून घाणांच्या आसंजन शक्तीपेक्षा जास्त शक्ती प्रदान करते, ज्यामुळे उष्णता एक्सचेंजच्या पृष्ठभागावरून घाण वेगळे होते.

यांत्रिक साफसफाईच्या दोन प्रकारांचे दोन प्रकार आहेत: एक म्हणजे एक मजबूत साफसफाईची पद्धत, जसे की वॉटर स्प्रे क्लीनिंग, स्टीम स्प्रे क्लीनिंग, सँडब्लास्टिंग क्लीनिंग, स्क्रॅपर किंवा ड्रिल बिट डिस्कलिंग इत्यादी; दुसरा प्रकार म्हणजे मऊ यांत्रिक साफसफाई, जसे की वायर ब्रश क्लीनिंग आणि रबर बॉल क्लीनिंग. खाली अनेक प्रकारच्या पद्धती आहेत:

स्प्रे क्लीनिंग ही उच्च-दाब वॉटर फवारणी किंवा यांत्रिक प्रभाव वापरून एक डेस्कॅलिंग पद्धत आहे. ही पद्धत वापरताना, पाण्याचे दाब सामान्यत: 20 ~ 50 एमपीए असते. आता 50-70 एमपीएचा उच्च दबाव देखील वापरला जात आहे.

स्प्रे क्लीनिंग, फवारणीसाठी डिझाइन आणि ऑपरेशनमध्ये समान, एक असे साधन आहे जे प्रभाव आणि उष्णतेद्वारे घाण काढून टाकण्यासाठी उष्मा एक्सचेंजरच्या ट्यूब आणि शेलच्या बाजूंमध्ये स्टीम फवारते.

सँडब्लास्टिंग क्लीनिंग म्हणजे स्क्रीनिंग क्वार्ट्ज वाळूवर (सामान्यत: 3-5 मिमीच्या कण आकारासह) मजबूत रेखीय वेग निर्माण करण्यासाठी स्प्रे गनद्वारे कॉम्प्रेस्ड एअर (300-350 केपीए) वापरण्याची प्रक्रिया आहे, जी उष्णता एक्सचेंजर ट्यूबच्या आतील भिंतीला फ्लश करते, आणि मूळ उष्णता हस्तांतरणाची वैशिष्ट्ये पुनर्संचयित करते.

स्क्रॅपर किंवा ड्रिल बिट डिस्कलिंग, हे क्लीनिंग मशीन केवळ पाईप्स किंवा सिलेंडर्सच्या आत घाण साफ करण्यासाठी योग्य आहे. लवचिक फिरणार्‍या शाफ्टच्या शीर्षस्थानी एक डेस्कॅलिंग स्क्रॅपर किंवा ड्रिल बिट स्थापित करा आणि कॉम्प्रेस्ड एअर किंवा वीज (पाणी किंवा स्टीम वापरुन) स्क्रॅपर किंवा ड्रिल बिट फिरवा.

शॉट ब्लास्टिंग क्लीनरचा वापर करून रबर बॉल क्लीनिंग केली जाते. शॉट ब्लास्टिंग क्लीनर स्पंज बॉल आणि फ्लुइड स्प्रे गनने बनलेला आहे जो बॉलला पाईपच्या आतील भागात स्वच्छ करण्यासाठी ढकलतो. चेंडूला शेलसारखे आकार दिले जाते आणि अर्ध हार्ड फोम पॉलीयुरेथेन स्पंजमधून बाहेर काढले जाते, जे लवचिक आहे.

 

रासायनिक साफसफाई

रासायनिक साफसफाईच्या पद्धतीमध्ये घाण आणि उष्णतेच्या एक्सचेंजच्या पृष्ठभागामधील आसंजन कमी करण्यासाठी द्रवपदार्थात डेस्कॅलिंग एजंट्स, ids सिडस्, एंजाइम इत्यादी जोडणे समाविष्ट आहे, ज्यामुळे उष्णता एक्सचेंजच्या पृष्ठभागावरून सोलणे होते.

वापरल्या जाणार्‍या सध्याच्या रासायनिक साफसफाईच्या पद्धती आहेत:

अभिसरण पद्धत: साफसफाईसाठी सफाई सोल्यूशन सक्ती करण्यासाठी पंप वापरा.

विसर्जन करण्याची पद्धत: साफसफाईच्या द्रावणासह उपकरणे भरा आणि विशिष्ट कालावधीसाठी उभे राहू द्या.

लाट पद्धतः साफसफाईच्या द्रावणासह उपकरणे भरा, नियमित अंतराने तळाशी साफसफाईच्या द्रावणाचा एक भाग डिस्चार्ज करा आणि नंतर ढवळत आणि साफसफाईचा उद्देश साध्य करण्यासाठी उपकरणांमध्ये डिस्चार्ज केलेले द्रव पुन्हा स्थापित करा.

 

प्रतिक्रिया केटली कशी स्वच्छ करावी?

रिएक्शन कलम साफ करण्यासाठी तीन मुख्य पद्धती आहेत: यांत्रिक साफसफाई, रासायनिक साफसफाई आणि मॅन्युअल साफसफाई.

 

यांत्रिक साफसफाई

मेकॅनिकल क्लीनिंग: उच्च-दाब साफसफाईचे साधन वापरुन, उच्च-दाब पाण्याचा प्रवाह नोजलमधून फ्लश करण्यासाठी वापरला जातो, प्रतिक्रिया जहाजाच्या आतील भिंतीवर आणि आंदोलनाच्या पृष्ठभागावर कठोर स्केल तोडतो, पूर्णपणे सोलून सोलून काढतो.

उच्च-दाब वॉटर जेट साफसफाईचे तत्व म्हणजे पाण्याचे प्रमाण उच्च दाबाने संकुचित करणे आणि नंतर केटलमध्ये घातलेल्या साफसफाईच्या रोबोटवर स्थापित केलेल्या नोजलद्वारे ते सोडणे. दबाव पाण्याच्या प्रवाहाच्या गतीशील उर्जेमध्ये रूपांतरित केला जाऊ शकतो, ज्यामुळे साफसफाई आणि काढण्याचे प्रभाव प्राप्त करण्यासाठी भिंतीवरील घाणांवर परिणाम होऊ शकतो.
रासायनिक साफसफाई

सर्वप्रथम, अणुभट्टी उपकरणांमधील स्केल नमुन्यांची रचना, शक्यतो नमुना आणि विश्लेषणाद्वारे जाणून घेणे आवश्यक आहे. घाणची रचना निश्चित केल्यानंतर, प्रथम प्रयोग आयोजित करा, साफसफाईचे एजंट निवडा आणि प्रयोगांद्वारे पुष्टी करा की ते उपकरणाच्या धातूला गंजणार नाहीत. त्यानंतर, उपकरणाच्या आत साफसफाईचे समाधान फिरविण्यासाठी आणि घाण धुण्यासाठी साइटवर तात्पुरते अभिसरण डिव्हाइस सेट केले आहे.

प्रथम, मिक्सिंग ब्लेड आणि केटलीच्या अंतर्गत भिंत योग्य प्रमाणात पाण्यात स्वच्छ धुवा आणि त्यांना पूर्णपणे काढून टाका.

दबाव आणलेल्या डिव्हाइसद्वारे दिवाळखोर नसलेल्या प्रतिक्रियेचे जहाज फ्लश करा.

जर साफसफाईचा प्रभाव प्राप्त झाला नाही तर, रिएक्शन केटलमध्ये योग्य प्रमाणात दिवाळखोर नसलेला, उष्णता, नीट ढवळून घ्या आणि रिफ्लक्स साफसफाईची आवश्यकता पूर्ण होईपर्यंत आणि नंतर दिवाळखोर नसलेला सोडा.

अखेरीस, विशिष्ट प्रमाणात दिवाळखोर नसलेल्या प्रतिक्रियेच्या पात्राची आतील भिंत स्वच्छ धुवा आणि त्यास सोडा.

किटली आणि मॅन्युअल क्लीनिंगमध्ये मॅन्युअल एंट्री

कमी खर्चाचा हा सर्वात मोठा फायदा आहे, परंतु अणुभट्टीमध्ये प्रवेश करण्यापूर्वी त्यासाठी कित्येक तास वेंटिलेशन आणि एअर एक्सचेंजची आवश्यकता आहे. साफसफाईच्या प्रक्रियेदरम्यान, अणुभट्टीच्या आत ऑक्सिजनच्या एकाग्रतेचे नेहमीच परीक्षण केले जाणे आवश्यक आहे, ज्यामुळे ऑक्सिजनच्या कमतरतेचा धोका असतो; त्याच वेळी, मॅन्युअल स्क्रॅप करणे केवळ पूर्णपणे स्वच्छ करण्यात अपयशी ठरत नाही, तर प्रतिक्रिया पात्राच्या आतील भिंतीवर सरकत्या चिन्ह देखील कारणीभूत ठरते, ज्यामुळे वस्तुनिष्ठपणे अवशेषांचे आसंजन होते. किटली साफ केल्यास उत्पादनासह स्वच्छतेचे प्रश्न देखील उद्भवू शकतात. सर्वसाधारणपणे सांगायचे तर, केटली साफ करण्यासाठी सुमारे अर्धा दिवस हा दिवस लागतो.

तीन पद्धतींपैकी प्रत्येकाचे स्वतःचे फायदे आणि तोटे आहेत:

मेकॅनिकल क्लीनिंग उपकरणांचे प्रमाण वाढवत नाही आणि प्रभावीपणे कठोर प्रमाणात स्वच्छ करू शकते, परंतु यास बराच वेळ लागतो आणि उच्च श्रमांची तीव्रता आवश्यक आहे;

रासायनिक साफसफाईसाठी कमी श्रम आवश्यक आहेत, कमी साफसफाईचा वेळ आहे आणि संपूर्णपणे साफ होतो, परंतु यामुळे उपकरणे कोरडे होऊ शकतात;

साफसफाईसाठी मॅन्युअली किटलीमध्ये प्रवेश करणे कमी किमतीचे आहे, परंतु त्यात उच्च पातळीवरील धोका आहे आणि तो पूर्णपणे स्वच्छ केला जाऊ शकत नाही.

म्हणूनच, कामकाजाच्या परिस्थितीत रासायनिक साफसफाई लागू केली जाते जिथे घाण मऊ आणि पातळ असते, तर मेकॅनिकल साफसफाईच्या कामकाजाच्या परिस्थितीत लागू केले जाते जेथे घाण कठोर आणि जाड असते.